第十七改正日本薬局方 一般試験法 残留溶媒のご案内

残留溶媒に係る規定が拡充されました。

 ICH Q3C 医薬品の残留溶媒ガイドラインが日本薬局方にも適用され,一般試験法「残留溶媒<2.46>」が拡充されるとともに,通則に次の一文が追加されました。

通則 34 日本薬局方の医薬品は,医薬品各条において規定する場合を除き,原則として一般試験法の残留溶媒に係る規定に従って,適切に管理を行う。



 溶媒は,下表のとおり有害性に応じてクラス1~3に分類されます。
 今回の改正では,有害なクラス1の溶媒の管理に本試験が適用されます。クラス2及びクラス3の溶媒については,一般試験法に「その適用は別に定めるものとする。」とあり,次回の第一追補による改正を目処に規定が適用される予定です。
 監視すべき溶媒は製造工程により異なるため,適切な溶媒を選定のうえ,ヘッドスペースサンプラ付ガスクロマトグラフを用いて試験を行います。

クラス1 医薬品の製造において使用を避けるべき溶媒
ベンゼン,四塩化炭素,1,2-ジクロロエタン,1,1-ジクロロエテン,1,1,1-トリクロロエタン
クラス2 医薬品中の残留量を規制すべき溶媒
アセトニトリル,クロロホルム,シクロヘキサン,ジクロロメタン,ヘキサン,メタノール,トルエン,キシレン* 他
クラス3 GMP又はその他の品質基準により規制されるべき溶媒
酢酸,アセトン,1-ブタノール,ジメチルスルホキシド,エタノール,酢酸エチル,ジエチルエーテル,ギ酸,1-プロパノール 他

* 通常,60%のm-キシレン,14%のp-キシレン,9%のo-キシレン及び17%のエチルベンゼンの混合物

対象検体

 医薬品原料,原薬及び製剤 (生薬は除く)

対象溶媒

 製造工程で使用される溶媒か,生成される溶媒をご指定ください。

受託が難しい溶媒

 不揮発性物質
   N,N-ジメチルアセトアミド,N,N-ジメチルホルムアミド,2-エトキシエタノール,エチレングリコール,ホルムアミド,2-メトキシエタノール,N-メチルピロリドン,スルホラン


 規定の感度が担保できない物質
   酢酸,ジメチルスルホキシド,ギ酸

分析

限度試験をご希望の場合

試験方法 日局 一般試験法,操作法A
提出書類 成績書(濃度限度値相当の限度試験結果)
別添[クロマトグラム及び推定定量値(検出されたピークから計算した参考値)]
特記事項 別添を提出することにより,濃度限度値相当の結果だけでなく,おおよその含量レベルが確認いただけます。
結果によっては操作法Bに進む場合があります。

定量試験をご希望の場合

試験方法日局 一般試験法,操作法C
試験内容 簡易バリデーション[直線性(5点)から定量下限の推定を実施します。]
実測値測定(バリデーションとともに実施)
提出書類 成績書(簡易バリデーションの結果及び実測値測定の結果)
特記事項 濃度限度値相当以下の定量値が必要な場合は上記の簡易バリデーションが必要となります。ご要望によりフルバリデーションを実施することも可能です。

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